感光材料在版畫中的應(yīng)用
[Abstract]:Hegel: "the creative ability of an artist depends not only on the imagination of the object, but also on the understanding and control of the material as a practitioner." The historical process of printmaking follows the development of science and technology and culture. Innovative technology and bold application of materials has become an important attribute and characteristics of printmaking development. At present, one of the focuses of artists of all kinds of paintings is the mutual relationship and perfect fusion between the special properties of materials and their artistic expressiveness. At present, worldwide, because of the development of advanced industrial technology in the West, the combination of photographic materials and printmaking has gained more practice and recognition, and the materials have been continuously tested and innovated. Repeated experiments and practices are constantly expanding and expanding printmaking, a painting with special symbols. The combination of photosensitive materials and printmaking is that after the combination of copperplate and photography, it becomes more convenient and faster to copy images. The printing industry has made great progress, and the use of mechanical tools to copy works of art is a new way of the development of the times. At the same time, with the development of chemical materials, the application, development and research of new photosensitive materials are more in-depth and specific. In combination with the theory, the author's experiments are as follows: 1. In the exposure stage, the direct exposure of the screen photosensitizer is carried out by using digital projection amplification, and the photosensitizer of diazo photosensitive solution (DM-I) is used to make the photosensitizer. A simple and feasible method for making small and medium screen prints is obtained. 2. The ultraviolet light source is abandoned, and the exposure acuity and particle density around the sensitive glue are observed by using double U 72W color temperature 5000K. Conclusion: 1. MISASUBI HC1100 (performance parameter, Texas instrument 0.62 inch DarkChip2DMD panel, standard resolution 1280 脳 720pixel, brightness output 1000 lumen, contrast 3000:1.DP3020 digital circuit) was used to expose directly on the screen coated with photosensitive emulsion. The results were roughly the same as those of conventional UV exposures, but the details were poor. The exposure time was about three times that of conventional UV exposure, which took 25 minutes. 2, and 40-50 minutes with a double U 72W color temperature of 5000K. The experimental results are the same as those of traditional ultraviolet rays and the details are exactly the same, but the exposure time is about 5 times longer than that of ultraviolet exposure. This method is suitable for printmaking workers to create freely under the condition of low cost and no ultraviolet light radiation.
【學(xué)位授予單位】:沈陽師范大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2014
【分類號】:J217
【相似文獻(xiàn)】
相關(guān)期刊論文 前10條
1 楊適冬;工業(yè)風(fēng)景版畫抒情的初探[J];美術(shù);1984年05期
2 趙宗藻;;十屆版畫展覽與浙江作品[J];新美術(shù);1991年01期
3 傅俊山;建立立體,多層面的數(shù)學(xué)機(jī)制──新時期對版畫創(chuàng)作教學(xué)的再思考[J];藝術(shù)探索;1996年02期
4 周矩敏;;第九屆“姑蘇之秋”版畫邀請展作品集序[J];美術(shù)界;2006年01期
5 李瑞洪;;湖北現(xiàn)代版畫創(chuàng)作紀(jì)實[J];武漢文史資料;2007年06期
6 李東;;論版畫的平面化追求[J];文藝爭鳴;2010年20期
7 陳九如;版畫本科創(chuàng)作課教學(xué)應(yīng)強(qiáng)調(diào)素質(zhì)教育[J];藝術(shù)探索;2000年S2期
8 ;第十七屆全國版畫作品展覽貴州獲獎入選作品選登[J];藝術(shù)界;2006年03期
9 陳文麗;溫瑩瑩;;淺析版畫的間接性和復(fù)數(shù)性[J];呼倫貝爾學(xué)院學(xué)報;2007年05期
10 應(yīng)金飛;;寫生與版畫[J];今日藝術(shù);2008年08期
相關(guān)會議論文 前10條
1 肖健;;如何在新時期堅持發(fā)展版畫群體隊伍[A];中國民間文化藝術(shù)之鄉(xiāng)建設(shè)與發(fā)展初探[C];2010年
2 蘭坤發(fā);;產(chǎn)業(yè)化發(fā)展是松溪版畫事業(yè)的朝陽之路[A];中國民間文化藝術(shù)之鄉(xiāng)建設(shè)與發(fā)展初探[C];2010年
3 陳正元;;版畫雜談[A];中國民間文化藝術(shù)之鄉(xiāng)建設(shè)與發(fā)展初探[C];2010年
4 龔贛弟;;播夏耘秋收冬藏——“寶山楊行吹塑版畫”輔導(dǎo)探幽[A];中國民間文化藝術(shù)之鄉(xiāng)建設(shè)與發(fā)展初探[C];2010年
5 徐珍;;中國一冶工業(yè)版畫創(chuàng)作群體回眸[A];首屆中國高校美術(shù)與設(shè)計論壇論文集(下)[C];2010年
6 趙曉澄;;回顧與展望——大興安嶺版畫面面觀[A];中國民間文化藝術(shù)之鄉(xiāng)建設(shè)與發(fā)展初探[C];2010年
7 周國平;;樟樹版畫發(fā)展壯大的歷史思考[A];中國民間文化藝術(shù)之鄉(xiāng)建設(shè)與發(fā)展初探[C];2010年
8 潘擎;;中國當(dāng)代藝術(shù)中的“面孔”及我的版畫創(chuàng)作[A];首屆中國高校美術(shù)與設(shè)計論壇論文集(下)[C];2010年
9 張士勤;;對大興安嶺版畫群體的思考[A];中國民間文化藝術(shù)之鄉(xiāng)建設(shè)與發(fā)展初探[C];2010年
10 張定虎;;從中國現(xiàn)代民間繪畫藝術(shù)語言的拓展態(tài)勢看宜昌鄉(xiāng)村版畫觀念及其規(guī)律[A];中國民間文化藝術(shù)之鄉(xiāng)建設(shè)與發(fā)展初探[C];2010年
相關(guān)重要報紙文章 前10條
1 本報記者 馬蕊;馬關(guān)農(nóng)民版畫:原生態(tài)壯族文化的絕唱[N];中華工商時報;2010年
2 本報駐廣東記者 岳曉峰 通訊員 謝慶華 郭健;深圳觀瀾版畫巡展黑龍江[N];中國文化報;2010年
3 周代紅;版畫史上的濃重一筆[N];大連日報;2010年
4 黃偉 柯遵群;觀瀾版畫走進(jìn)中國美術(shù)最高殿堂[N];南方日報;2010年
5 李煥民;徐匡版畫的獨(dú)特性、象征性、審美性[N];中國藝術(shù)報;2011年
6 深圳商報記者 梁瑛;可以和照片較“真”的版畫[N];深圳商報;2011年
7 深圳特區(qū)報記者 孟迷 實習(xí)生 陳秋蘭;深圳版畫蓄勢騰飛[N];深圳特區(qū)報;2011年
8 本報記者 李百靈;惟有關(guān)注大眾版畫才有未來[N];中國文化報;2011年
9 徐紅梅 孫寧;圣潔之景 不舍之情[N];人民日報;2008年
10 本報記者 朱永安;觀瀾國際版畫雙年展將亮相第七屆文博會[N];中國文化報;2011年
相關(guān)博士學(xué)位論文 前10條
1 張文松;夢在山外—民國(1912-1949)版畫中的西方視角[D];中國美術(shù)學(xué)院;2013年
2 Bazlur Rashid Khan(拉西德);人民的藝術(shù)[D];中央美術(shù)學(xué)院;2011年
3 黃洋;李樺藝術(shù)與教育研究[D];中央美術(shù)學(xué)院;2014年
4 董捷;明末湖州版畫創(chuàng)作考[D];中國美術(shù)學(xué)院;2008年
5 陳旭霞;運(yùn)動的形式及技術(shù)的實驗[D];上海大學(xué);2012年
6 郭尹藍(lán);漂泊的群體[D];中國藝術(shù)研究院;2013年
7 朱明清;木版水印技藝的保護(hù)和傳承[D];中國藝術(shù)研究院;2014年
8 李嘯非;晚明環(huán)翠堂版畫研究[D];中央美術(shù)學(xué)院;2013年
9 陳玄巍;木版畫的刀法與表現(xiàn)[D];中國美術(shù)學(xué)院;2011年
10 安永欣;晚明畫譜綜合研究[D];中央美術(shù)學(xué)院;2012年
相關(guān)碩士學(xué)位論文 前10條
1 哈斯圖雅;內(nèi)蒙古版畫創(chuàng)作中的民族與地域特征[D];內(nèi)蒙古師范大學(xué);2011年
2 穆智飛;新媒體創(chuàng)作與我的版畫研習(xí)[D];中央美術(shù)學(xué)院;2011年
3 李辰婧;從藝術(shù)作品的目的和意義看“版畫”的未來[D];中國美術(shù)學(xué)院;2010年
4 王潭;論當(dāng)今版畫藝術(shù)教育模式與普及[D];天津師范大學(xué);2010年
5 苗紅潤;融合抽象畫特質(zhì)的版畫創(chuàng)作探析[D];遼寧師范大學(xué);2010年
6 寇超;論平面構(gòu)成在中國當(dāng)代版畫創(chuàng)作中的應(yīng)用[D];華中師范大學(xué);2011年
7 楊海龍;論銅版畫創(chuàng)作中技術(shù)的重要性[D];內(nèi)蒙古師范大學(xué);2011年
8 吳昊;在版畫創(chuàng)作中應(yīng)用照片制作手段的實驗報告[D];西安美術(shù)學(xué)院;2010年
9 徐珍;法國印象派畫家的版畫創(chuàng)作研究[D];華中師范大學(xué);2011年
10 蘇旭光;理想與理想[D];中央美術(shù)學(xué)院;2010年
本文編號:2277981
本文鏈接:http://www.lk138.cn/wenyilunwen/huihuayishu/2277981.html