摻雜與圖案化對(duì)Fe基軟磁薄膜動(dòng)態(tài)磁性的影響
發(fā)布時(shí)間:2020-12-01 20:24
鐵磁共振以及自旋波共振是鐵磁體中磁矩的集體激發(fā)模式。軟磁薄膜由于具有高共振頻率與磁導(dǎo)率等優(yōu)勢,被廣泛應(yīng)用于電子元器件中。近年來,電子元器件逐漸向微型化、高頻化、集成化、多頻化等方向發(fā)展,這對(duì)應(yīng)用其中的軟磁薄膜提出了更高的要求。因此,對(duì)于軟磁薄膜動(dòng)態(tài)磁性,特別是共振頻率和磁導(dǎo)率的研究是十分必要的。本論文基于電化學(xué)沉積和磁控濺射方法研究了Fe基軟磁薄膜的動(dòng)態(tài)磁性。另外,通過圖案化設(shè)計(jì)研究了坡莫合金薄膜的自旋波激發(fā)。主要內(nèi)容如下:1、采用電化學(xué)沉積方法研究了C和Ce元素?fù)诫s對(duì)FeCo合金薄膜磁性的影響。研究發(fā)現(xiàn)改變摻雜濃度可調(diào)控樣品的晶體結(jié)構(gòu),并發(fā)現(xiàn)摻雜可優(yōu)化FeCo薄膜的軟磁性能,另外電沉積參數(shù)對(duì)樣品的矯頑力、共振頻率等具有調(diào)控作用。2、利用共濺射方法成功制備了FeNi-MgO顆粒膜,并通過改變MgO濺射功率、傾斜濺射角度以及熱處理溫度來實(shí)現(xiàn)FeNi-MgO動(dòng)態(tài)磁性的調(diào)控。結(jié)果表明MgO濺射功率能夠調(diào)控樣品的共振頻率和阻尼,同時(shí)傾斜濺射也是調(diào)控樣品共振頻率的有效方法。并且經(jīng)由200 oC和500 oC熱處理后,磁譜表現(xiàn)為兩個(gè)共振模式。另外,通過氬...
【文章來源】:蘭州大學(xué)甘肅省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:143 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
(a)自旋行波和(b)自旋駐波
蘭州大學(xué)博士學(xué)位論文摻雜與圖案化對(duì)Fe基軟磁薄膜動(dòng)態(tài)磁性的影響7圖1-2(a)磁化強(qiáng)度位于磁性薄膜平面內(nèi),在薄膜內(nèi)部可激發(fā)三種模式自旋波:PSSW、MSBVW和DEwave;(b)磁化強(qiáng)度垂直于磁性薄膜平面,在薄膜內(nèi)部可激發(fā)兩種模式自旋波:PSSW和MSFVW[98]1.2.4自旋波的探測任何事物的出現(xiàn)與探索都需要經(jīng)歷一定的過程,對(duì)于自旋波的探索也遵循這一規(guī)律。起初,人們更多的著眼于自旋波的激發(fā),隨后如何準(zhǔn)確的探測自旋波成為研究者關(guān)注的重點(diǎn)。自旋波發(fā)展至今,常用的典型探測方法有:1)中子散射[99]:中子是一種較為特殊的核子,不帶電荷卻具有自旋屬性且有很強(qiáng)的穿透性。中子入射到材料中,與材料的晶格、原子等相互作用,最終出射的中子攜帶有材料的信息。中子散射可探測位于交換作用區(qū)的自旋波,并且測試過程中可以轉(zhuǎn)換角度。2)共振吸收法[100-102]:受到微波的擾動(dòng),磁矩將會(huì)繞著有效場進(jìn)動(dòng),當(dāng)外加能量與磁矩進(jìn)動(dòng)的能量相等時(shí),將發(fā)生強(qiáng)烈的共振吸收。共振吸收法需要用微波激發(fā)、可探測自旋駐波、探測分辨率高。3)布里淵光散射法(BLS)[103-106]:BLS方法以自旋波的非彈性散射作為探測基矗一束光入射到磁性材料上,光子與磁性材料相互作用,出射光帶有磁性材料的信息。BLS是研究磁性薄膜自旋波的一種方便有效的方法。具有可探測整個(gè)布里淵區(qū)的自旋波譜、測試過程中通過改變散射的幾何安排,可以得到不同方向傳播的自旋波譜、可同時(shí)探測體波(駐波)、表面波和聲子激發(fā),探測靈敏度高等優(yōu)勢。與共振吸收法相比,BLS不需要微波激發(fā)并且可以探測相同頻率不同波矢的自旋波。4)時(shí)間分辨的磁光克爾顯微鏡(TRMOKE方法)[107-109]:TRMOKE方法以磁光克爾效應(yīng)為基礎(chǔ)對(duì)磁性薄膜磁矩的動(dòng)態(tài)性能進(jìn)行探測。具有優(yōu)異的時(shí)間分辨性,可以對(duì)
蘭州大學(xué)博士學(xué)位論文摻雜與圖案化對(duì)Fe基軟磁薄膜動(dòng)態(tài)磁性的影響18其中,Nd為退磁因子,是磁化強(qiáng)度矢量與z軸的夾角,Ms是鐵磁性材料的飽和磁化強(qiáng)度。當(dāng)=90o時(shí),磁化強(qiáng)度垂直于z軸,退磁因子為0,退磁能最校當(dāng)=0o時(shí),磁化強(qiáng)度平行于z軸,此時(shí)退磁因子為1,退磁能最大。因此對(duì)于無限大均勻薄膜,磁矩分布在薄膜表面內(nèi)是最穩(wěn)定的狀態(tài),薄膜膜面為易磁化面。圖2-1一個(gè)磁棒內(nèi)部和外部的磁化強(qiáng)度分布[3]體退磁場又稱為偶極作用等效場,是一種局域的退磁場[4],它是磁矩空間分布不均勻而產(chǎn)生的,即使在無限大的磁性體系中,在不考慮邊界處自由磁極的情況下,它依然是存在的。假設(shè)磁化強(qiáng)度是時(shí)間和空間的函數(shù),則:()()()000,,ikrkkMrtMmrtMmte=+=+(2-5)在考慮偶極相互作用的情況下,磁矩的進(jìn)動(dòng)產(chǎn)生自旋波。由于自旋波的波長比該材料中電磁波的波長大得多。因此麥克斯韋方程中的推遲項(xiàng)Dt可以忽略,則:00dipHB==(2-6)由于()dipB=M+H,則可得到:()2dipH=M(2-7)設(shè)()()0,ikrdipdipHrtHte=(2-8)則22dipdipH=kH(2-9)根據(jù)式(2-5)和(2-7),有:
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]磁控濺射鍍膜的原理與故障研究[J]. 周江. 科技展望. 2015(23)
[2]軟磁材料應(yīng)用研究進(jìn)展[J]. 湛永鐘,潘燕芳,黃金芳,梁江,王肖錚. 廣西科學(xué). 2015(05)
[3]磁控濺射技術(shù)的原理與發(fā)展[J]. 王俊,郝賽. 科技創(chuàng)新與應(yīng)用. 2015(02)
[4]ESR簡介及其應(yīng)用探討[J]. 王長軒. 內(nèi)江科技. 2014(05)
[5]微納加工領(lǐng)域新著——《微納加工及在納米材料與器件研究中的應(yīng)用》[J]. 錢俊. 物理. 2013(11)
[6]磁控濺射鍍膜的原理與故障分析[J]. 郝曉亮. 電子工業(yè)專用設(shè)備. 2013(06)
[7]Electron transport properties of magnetic granular films[J]. PENG DongLiang,WANG JunBao,WANG LaiSen,LIU XiaoLong,WANG ZhenWei,CHEN YuanZhi. Science China(Physics,Mechanics & Astronomy). 2013(01)
[8]新型振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)測量材料磁性[J]. 郇維亮,高峰,徐小龍. 實(shí)驗(yàn)技術(shù)與管理. 2012(02)
[9]電化學(xué)沉積法制備薄膜、涂層材料研究進(jìn)展[J]. 王博,黃劍鋒,夏常奎. 陶瓷. 2010(01)
[10]磁性材料新近進(jìn)展[J]. 都有為. 物理. 2006(09)
博士論文
[1]射頻反應(yīng)磁控濺射制備高頻用Fe-N薄膜結(jié)構(gòu)與磁性的研究[D]. 李曉宇.蘭州大學(xué) 2014
[2]自旋轉(zhuǎn)移矩效應(yīng)驅(qū)動(dòng)磁性納米結(jié)構(gòu)的磁化動(dòng)力學(xué)研究[D]. 牟從普.蘭州大學(xué) 2013
[3]電化學(xué)沉積法制備FeCo基軟磁薄膜高頻磁性的調(diào)控[D]. 王振坤.蘭州大學(xué) 2012
[4]異質(zhì)結(jié)構(gòu)軟磁材料的高頻磁特性研究[D]. 柴國志.蘭州大學(xué) 2012
[5]鐵磁金屬薄膜的高頻性質(zhì)[D]. 范小龍.蘭州大學(xué) 2010
碩士論文
[1]軟磁薄膜的高頻磁性測試方法研究及其在坡莫合金薄膜研究中的應(yīng)用[D]. 魏晉武.蘭州大學(xué) 2017
[2]鐵鎳合金薄膜中的自旋駐波研究[D]. 饒金威.蘭州大學(xué) 2015
[3]電沉積參數(shù)對(duì)FeCo基軟磁薄膜磁性能的影響[D]. 馮爾璽.蘭州大學(xué) 2013
[4]微帶帖片天線的仿真分析和優(yōu)化[D]. 夏達(dá).華中科技大學(xué) 2007
[5]磁性納米膜微波磁譜測量系統(tǒng)研究[D]. 彭顯旭.華中科技大學(xué) 2005
本文編號(hào):2895029
【文章來源】:蘭州大學(xué)甘肅省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:143 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
(a)自旋行波和(b)自旋駐波
蘭州大學(xué)博士學(xué)位論文摻雜與圖案化對(duì)Fe基軟磁薄膜動(dòng)態(tài)磁性的影響7圖1-2(a)磁化強(qiáng)度位于磁性薄膜平面內(nèi),在薄膜內(nèi)部可激發(fā)三種模式自旋波:PSSW、MSBVW和DEwave;(b)磁化強(qiáng)度垂直于磁性薄膜平面,在薄膜內(nèi)部可激發(fā)兩種模式自旋波:PSSW和MSFVW[98]1.2.4自旋波的探測任何事物的出現(xiàn)與探索都需要經(jīng)歷一定的過程,對(duì)于自旋波的探索也遵循這一規(guī)律。起初,人們更多的著眼于自旋波的激發(fā),隨后如何準(zhǔn)確的探測自旋波成為研究者關(guān)注的重點(diǎn)。自旋波發(fā)展至今,常用的典型探測方法有:1)中子散射[99]:中子是一種較為特殊的核子,不帶電荷卻具有自旋屬性且有很強(qiáng)的穿透性。中子入射到材料中,與材料的晶格、原子等相互作用,最終出射的中子攜帶有材料的信息。中子散射可探測位于交換作用區(qū)的自旋波,并且測試過程中可以轉(zhuǎn)換角度。2)共振吸收法[100-102]:受到微波的擾動(dòng),磁矩將會(huì)繞著有效場進(jìn)動(dòng),當(dāng)外加能量與磁矩進(jìn)動(dòng)的能量相等時(shí),將發(fā)生強(qiáng)烈的共振吸收。共振吸收法需要用微波激發(fā)、可探測自旋駐波、探測分辨率高。3)布里淵光散射法(BLS)[103-106]:BLS方法以自旋波的非彈性散射作為探測基矗一束光入射到磁性材料上,光子與磁性材料相互作用,出射光帶有磁性材料的信息。BLS是研究磁性薄膜自旋波的一種方便有效的方法。具有可探測整個(gè)布里淵區(qū)的自旋波譜、測試過程中通過改變散射的幾何安排,可以得到不同方向傳播的自旋波譜、可同時(shí)探測體波(駐波)、表面波和聲子激發(fā),探測靈敏度高等優(yōu)勢。與共振吸收法相比,BLS不需要微波激發(fā)并且可以探測相同頻率不同波矢的自旋波。4)時(shí)間分辨的磁光克爾顯微鏡(TRMOKE方法)[107-109]:TRMOKE方法以磁光克爾效應(yīng)為基礎(chǔ)對(duì)磁性薄膜磁矩的動(dòng)態(tài)性能進(jìn)行探測。具有優(yōu)異的時(shí)間分辨性,可以對(duì)
蘭州大學(xué)博士學(xué)位論文摻雜與圖案化對(duì)Fe基軟磁薄膜動(dòng)態(tài)磁性的影響18其中,Nd為退磁因子,是磁化強(qiáng)度矢量與z軸的夾角,Ms是鐵磁性材料的飽和磁化強(qiáng)度。當(dāng)=90o時(shí),磁化強(qiáng)度垂直于z軸,退磁因子為0,退磁能最校當(dāng)=0o時(shí),磁化強(qiáng)度平行于z軸,此時(shí)退磁因子為1,退磁能最大。因此對(duì)于無限大均勻薄膜,磁矩分布在薄膜表面內(nèi)是最穩(wěn)定的狀態(tài),薄膜膜面為易磁化面。圖2-1一個(gè)磁棒內(nèi)部和外部的磁化強(qiáng)度分布[3]體退磁場又稱為偶極作用等效場,是一種局域的退磁場[4],它是磁矩空間分布不均勻而產(chǎn)生的,即使在無限大的磁性體系中,在不考慮邊界處自由磁極的情況下,它依然是存在的。假設(shè)磁化強(qiáng)度是時(shí)間和空間的函數(shù),則:()()()000,,ikrkkMrtMmrtMmte=+=+(2-5)在考慮偶極相互作用的情況下,磁矩的進(jìn)動(dòng)產(chǎn)生自旋波。由于自旋波的波長比該材料中電磁波的波長大得多。因此麥克斯韋方程中的推遲項(xiàng)Dt可以忽略,則:00dipHB==(2-6)由于()dipB=M+H,則可得到:()2dipH=M(2-7)設(shè)()()0,ikrdipdipHrtHte=(2-8)則22dipdipH=kH(2-9)根據(jù)式(2-5)和(2-7),有:
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]磁控濺射鍍膜的原理與故障研究[J]. 周江. 科技展望. 2015(23)
[2]軟磁材料應(yīng)用研究進(jìn)展[J]. 湛永鐘,潘燕芳,黃金芳,梁江,王肖錚. 廣西科學(xué). 2015(05)
[3]磁控濺射技術(shù)的原理與發(fā)展[J]. 王俊,郝賽. 科技創(chuàng)新與應(yīng)用. 2015(02)
[4]ESR簡介及其應(yīng)用探討[J]. 王長軒. 內(nèi)江科技. 2014(05)
[5]微納加工領(lǐng)域新著——《微納加工及在納米材料與器件研究中的應(yīng)用》[J]. 錢俊. 物理. 2013(11)
[6]磁控濺射鍍膜的原理與故障分析[J]. 郝曉亮. 電子工業(yè)專用設(shè)備. 2013(06)
[7]Electron transport properties of magnetic granular films[J]. PENG DongLiang,WANG JunBao,WANG LaiSen,LIU XiaoLong,WANG ZhenWei,CHEN YuanZhi. Science China(Physics,Mechanics & Astronomy). 2013(01)
[8]新型振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)測量材料磁性[J]. 郇維亮,高峰,徐小龍. 實(shí)驗(yàn)技術(shù)與管理. 2012(02)
[9]電化學(xué)沉積法制備薄膜、涂層材料研究進(jìn)展[J]. 王博,黃劍鋒,夏常奎. 陶瓷. 2010(01)
[10]磁性材料新近進(jìn)展[J]. 都有為. 物理. 2006(09)
博士論文
[1]射頻反應(yīng)磁控濺射制備高頻用Fe-N薄膜結(jié)構(gòu)與磁性的研究[D]. 李曉宇.蘭州大學(xué) 2014
[2]自旋轉(zhuǎn)移矩效應(yīng)驅(qū)動(dòng)磁性納米結(jié)構(gòu)的磁化動(dòng)力學(xué)研究[D]. 牟從普.蘭州大學(xué) 2013
[3]電化學(xué)沉積法制備FeCo基軟磁薄膜高頻磁性的調(diào)控[D]. 王振坤.蘭州大學(xué) 2012
[4]異質(zhì)結(jié)構(gòu)軟磁材料的高頻磁特性研究[D]. 柴國志.蘭州大學(xué) 2012
[5]鐵磁金屬薄膜的高頻性質(zhì)[D]. 范小龍.蘭州大學(xué) 2010
碩士論文
[1]軟磁薄膜的高頻磁性測試方法研究及其在坡莫合金薄膜研究中的應(yīng)用[D]. 魏晉武.蘭州大學(xué) 2017
[2]鐵鎳合金薄膜中的自旋駐波研究[D]. 饒金威.蘭州大學(xué) 2015
[3]電沉積參數(shù)對(duì)FeCo基軟磁薄膜磁性能的影響[D]. 馮爾璽.蘭州大學(xué) 2013
[4]微帶帖片天線的仿真分析和優(yōu)化[D]. 夏達(dá).華中科技大學(xué) 2007
[5]磁性納米膜微波磁譜測量系統(tǒng)研究[D]. 彭顯旭.華中科技大學(xué) 2005
本文編號(hào):2895029
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