嚴(yán)苛使役環(huán)境下特種壓電晶體材料探索與器件驗(yàn)證
【文章頁(yè)數(shù)】:193 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1-1高溫壓電材料最大壓電常數(shù)及對(duì)應(yīng)的最高使用溫度??鈮酸鋰(LiNb03,?LN)晶體屬于三方晶系,3m點(diǎn)群
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圖2-1提拉法生長(zhǎng)晶體示意圖??其中1-7分別為籽晶桿、上保溫磚、剛玉罩、籽晶、晶體、Ir坩堝和下保溫??
?山東大學(xué)博士學(xué)位論文???第二章RECOB系列晶體的提拉法生長(zhǎng)及品質(zhì)表征??2.1引言??1916年,J.?Czochralski發(fā)明/一種快速生長(zhǎng)大尺寸晶體的新技術(shù)-提拉法,??1918年,在辦/故/3〃訴./加/7/?>^7無(wú)3/^(:如£7^?7?>雜志上發(fā)表論文,介紹了....
圖2-2多晶合成用高溫?zé)Y(jié)爐(KSS-1700°C)??2.2.2?RECOB單晶生長(zhǎng)??
?山東大學(xué)博士學(xué)位論文???KSS-1700?°C,能長(zhǎng)時(shí)間升高到1700°C,如圖2-2所示。??I?HI?^?j??■?LJ?J??■?□□s*?MM??窩遙節(jié)能電爐??■k??圖2-2多晶合成用高溫?zé)Y(jié)爐(KSS-1700°C)??2.2.2?RECOB單晶生長(zhǎng)??i.?Y....
圖2-3高溫單晶生長(zhǎng)爐,爐腔內(nèi)徑40?cm?(a)和爐腔內(nèi)徑80?cm?(b)??
?山東大學(xué)博士學(xué)位論文???中,籽晶里的缺陷會(huì)遺留到后續(xù)生長(zhǎng)的晶體中且將引起更多的微觀缺陷。當(dāng)??在晶體生長(zhǎng)初始階段,對(duì)稈晶進(jìn)行收徑處理可有效抑制后續(xù)晶體生長(zhǎng)過(guò)程中??缺陷的延續(xù)和擴(kuò)散;??(C)放肩:它是在收徑結(jié)束后進(jìn)行,目的是擴(kuò)大所晶體生長(zhǎng)的直徑。放肩的程??度需根據(jù)所生長(zhǎng)晶....
本文編號(hào):4022925
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