大功率高頻電波加熱電離層建模及數(shù)值仿真研究
【學(xué)位單位】:國(guó)防科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2017
【中圖分類(lèi)】:P352
【部分圖文】:
國(guó)防科技大學(xué)研究生院碩士學(xué)位論文離層加熱模擬二章建立的低電離層加熱模型對(duì)幾次不同初始條件的加熱過(guò)程進(jìn)行果分析了不同參數(shù)電波及背景電離層條件下加熱引起低電離層電子的差異。離層加熱模擬二章建立的高電離層加熱模型結(jié)合射線(xiàn)追蹤程序?qū)状尾煌跏紬l值模擬,并根據(jù)結(jié)果分析了不同參數(shù)電波及背景電離層條件下加熱度和電子密度擾動(dòng)的差異。與展望要工作及結(jié)論進(jìn)行闡述,列出了本文的創(chuàng)新點(diǎn)及不足之處,并對(duì)下和重點(diǎn)做出規(guī)劃。圖如下:
(a) (b)圖 3. 1 背景場(chǎng)電子溫度(a)及電子密度(b)高度分布3.1.2 數(shù)值模擬及結(jié)果分析取入射電波頻率為 9MHz,有效輻射功率為 200MW 的 O 波模,分別以斜向 45°和90°垂直入射電離層,經(jīng)過(guò) 5ms 后電子溫度和數(shù)密度的改變量的對(duì)比如圖 3.2 所示。(a) (b)
國(guó)防科技大學(xué)研究生院碩士學(xué)位論文(a) (b)圖 3. 1 背景場(chǎng)電子溫度(a)及電子密度(b)高度分布3.1.2 數(shù)值模擬及結(jié)果分析取入射電波頻率為 9MHz,有效輻射功率為 200MW 的 O 波模,分別以斜向 45°和90°垂直入射電離層,經(jīng)過(guò) 5ms 后電子溫度和數(shù)密度的改變量的對(duì)比如圖 3.2 所示。
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