實(shí)驗(yàn)研究了放電頻率、電脈沖能量、碎屑緩沖氣體流量等極紫外光源參數(shù)對(duì)極紫外輻照損傷測(cè)試系統(tǒng)聚焦光束性能的影響。測(cè)試結(jié)果表明:極紫外輻照損傷測(cè)試系統(tǒng)焦深為±1.5 mm;聚焦光斑尺寸及單脈沖能量隨光源電脈沖能量的增大而明顯增大,受光源放電頻率影響較小;典型工作條件下,光斑尺寸在0.79～1.44 mm之間,聚焦光束單脈沖能量在112.09～436.06μJ范圍內(nèi);在200 Hz、5.0 J時(shí)聚焦光束單脈沖能量最高為436.06μJ,聚焦光束單脈沖能量密度最高達(dá)到31.53 mJ/cm²,在1500 Hz、4.6 J時(shí)聚焦功率密度達(dá)32.87 W/cm²;最優(yōu)緩沖氣體Ar氣工作氣壓為1～2 Pa,此時(shí)聚焦光束單脈沖能量最優(yōu)。該測(cè)試研究可為極紫外輻照損傷測(cè)試研究中系統(tǒng)參數(shù)優(yōu)化及設(shè)置提供指導(dǎo)參考。

【文章頁(yè)數(shù)】：6 頁(yè)

【部分圖文】：

圖4光斑尺寸隨電脈沖能量的變化情況

圖3光斑尺寸隨光源放電頻率的變化曲線表1所示為不同放電頻率、不同電脈沖能量下光斑大小隨著輸入功率的變化情況,測(cè)試了7種典型工作條件下的光斑情況。典型的工作條件主要包括低頻率下的高電脈沖能量、中等頻率下的中等電脈沖能量、高頻率下的低電脈沖能量等工作條件。在相近輸入功率下,電脈沖能....

圖8聚焦光束單脈沖能量密度和功率密度

表3典型光源工作條件下焦點(diǎn)處的單脈沖能量密度和功率密度Table3SinglepulseenergydensityandpowerdensityatfocusundertypicalworkingconditionsNo.Frequency/Hz....

圖2聚焦點(diǎn)附近光斑大小變化情況

3.1系統(tǒng)焦深通過(guò)從德國(guó)Bruker定制的可沿著光軸移動(dòng)的EUV光斑測(cè)試系統(tǒng),測(cè)試焦點(diǎn)及離焦處光斑的大小。EUV光斑測(cè)試原理在文獻(xiàn)[18]中已有敘述,通過(guò)Ce:YAG熒光片將EUV光轉(zhuǎn)換成550nm的可見(jiàn)光,然后成像到CCD上。本實(shí)驗(yàn)所定制的EUV光斑測(cè)試系統(tǒng)的CCD的探測(cè)面....

圖3光斑尺寸隨光源放電頻率的變化曲線

在MoSi反射鏡及光路其他各部件固定的情況下,實(shí)驗(yàn)中只有光源等離子體的尺寸特性會(huì)對(duì)聚焦光斑的尺寸產(chǎn)生影響,因此具體測(cè)試了光源放電頻率、電脈沖能量及總輸入功率對(duì)聚焦光斑尺寸的影響。圖3所示為光斑尺寸隨放電頻率的變化情況,可以看出:在3.0J的電脈沖能量下,放電頻率為300,500....

本文編號(hào)：3987121