【摘要】：p-i-n二極管相對于p-n結(jié)二極管增加了一個本征區(qū)(又稱為基區(qū)),這使它更廣泛的應(yīng)用于整流、限幅、射頻、光電探測器等電力電子、光電子領(lǐng)域,基區(qū)的變化可以影響二極管的性能。使用MATLAB模擬了不同組分的In(Al)xGa(1-x)N材料的勢壘注入渡越時間(BARITT)二極管的特性,主要分析電流-電壓關(guān)系、單位面積電導-電壓關(guān)系、低場區(qū)與基區(qū)的分界點-電壓的關(guān)系;對比了兩種材料組份不同時,BARITT二極管的負阻特性以及電導、電納與頻率的關(guān)系。利用PECVD技術(shù)研制了p +型納米晶硅/n-型單晶硅/n+型納米晶硅((p+)nc-Si/(n-)c-Si/(n+)nc-Si)快恢復二極管;進一步地,在它的陰極結(jié)基區(qū)一側(cè)嵌入(p+)nc-SiC埋層形成控制背面空穴注入(CIBH)結(jié)構(gòu)。對比了有、無(p+)nc-SiC埋層的二極管的電容-電壓關(guān)系、電流-電壓曲線、反向恢復波形,討論了(p+)nc-SiC在二極管的動態(tài)和靜態(tài)過程中起的重要作用。結(jié)果表明,含(p+)nc-SiC埋層的二極管的抗雪崩耐性、反向恢復性能得到改善。
[Abstract]:Compared with p-n junction diodes, p-i-n diodes have added an intrinsic region (also known as base region), which makes it more widely used in power electronics, optoelectronics, such as rectifier, limiting, RF, photodetector, etc. Changes in the base region can affect the performance of the diode. MATLAB is used to simulate the characteristics of barrier injection transition time (BARITT) diodes for In (Al) xGa (1-x) N materials with different components. The relationship between current and voltage, conductance to voltage per unit area, and the relationship between boundary point and voltage in low field and base region are analyzed. The negative resistance characteristics and the relationship between conductance, electrical conductivity and frequency of the two materials are compared. The p-type nanocrystalline silicon / n- type monocrystalline silicon (p) nc-Si/ (n-) c-Si/ (n) nc-Si fast recovery diode has been fabricated by using PECVD technique. Furthermore, a controlled backside hole injection (CIBH) structure has been formed by embedding a (p) nc-SiC buried layer on one side of the cathode junction base region of p-type nanocrystalline silicon / n- type nanocrystalline silicon (p) nc-Si/ (n-) c-Si/ (n) nc-Si. The capacitance-voltage relationship, current-voltage curve and reverse recovery waveform of diodes without (p) nc-SiC buried layer are compared. The important role of (p) nc-SiC in the dynamic and static process of diodes is discussed. The results show that the avalanche resistance and reverse recovery of the diodes with (p) nc-SiC buried layer are improved.
【學位授予單位】：溫州大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2017
【分類號】：TN312.4

【參考文獻】

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本文編號：2260040