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碳膜層累積過(guò)程及電位計(jì)噴涂加工工藝研究

發(fā)布時(shí)間:2025-01-01 09:42
  碳膜電位計(jì)因?yàn)榫雀叻(wěn)定性好被廣泛應(yīng)用于航空航天等高精尖領(lǐng)域。目前我國(guó)主要通過(guò)噴涂法來(lái)制造精密碳膜電位計(jì)。但是由于部分工藝原因,及相關(guān)理論的欠缺,碳膜電位計(jì)的制造存在精度不能滿(mǎn)足要求,需要多次返工噴涂,這樣就會(huì)導(dǎo)致電位計(jì)生產(chǎn)周期變長(zhǎng),以及原料的浪費(fèi)。本文將從碳膜電位計(jì)累積機(jī)理入手,通過(guò)對(duì)碳膜電位計(jì)噴涂過(guò)程中霧化理論進(jìn)行分析,首先從理論角度分析碳膜電位計(jì)噴涂過(guò)程中對(duì)其精度產(chǎn)生影響的因素。然后結(jié)合實(shí)際生產(chǎn),對(duì)影響碳膜電位計(jì)精度的工藝因素進(jìn)行分析歸類(lèi)。根據(jù)實(shí)際噴涂過(guò)程中噴槍及基板的結(jié)構(gòu),建立碳膜電位計(jì)噴涂模型。然后根據(jù)已有模型,利用有限元分析軟件,對(duì)相關(guān)因素進(jìn)行仿真分析,通過(guò)對(duì)仿真結(jié)果進(jìn)行處理,確定后續(xù)試驗(yàn)所用因素,并對(duì)已有理論進(jìn)行初步驗(yàn)證。應(yīng)用無(wú)損檢測(cè)技術(shù),對(duì)碳膜電位計(jì)膜層厚度均勻性進(jìn)行分析檢測(cè),通過(guò)對(duì)比碳膜電位計(jì)線性度與膜層均勻度,得出二者之間評(píng)價(jià)關(guān)系。并利用膜層檢測(cè)結(jié)果對(duì)仿真及理論分析進(jìn)行驗(yàn)證。最后,根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)需求,對(duì)碳膜電位計(jì)噴涂設(shè)備進(jìn)行改裝,以期減少電位計(jì)噴涂過(guò)程因漏液導(dǎo)致的工件報(bào)廢現(xiàn)象。由于碳膜電位計(jì)噴涂基體材料較為昂貴,同時(shí)實(shí)驗(yàn)量較大,所以在不影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果的前提下尋找碳膜電位計(jì)...

【文章頁(yè)數(shù)】:75 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

圖1-1碳膜電位計(jì)原理圖

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1)基體;2)電阻膜;3)中間接點(diǎn);4)導(dǎo)電條;5)電刷;6)導(dǎo)電膜圖1-1碳膜電位計(jì)原理圖碳膜電阻片是碳膜電位計(jì)的主要組成部分,其電阻性能直接決定了碳膜電的工作精度[2]。碳膜電阻片主要由兩部分組成,一部分是由絕緣材料制成U出


圖1-2直線型碳膜電阻片實(shí)體圖

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圖1-2直線型碳膜電阻片實(shí)體圖層厚度的不同會(huì)選用不同的加工方法。薄下,可采用蒸鍍以及磁控濺射的方法獲得。微米類(lèi)型,常見(jiàn)的加工工藝有噴涂法和印刷


圖1-3噴涂距離為17cm,流量為0.1L/min時(shí)涂層厚度分布與相關(guān)參數(shù)關(guān)系

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圖1-3噴涂距離為17cm,流量為0.1L/min時(shí)涂層厚度分布與相關(guān)參數(shù)關(guān)系2電位計(jì)加工工藝研究現(xiàn)狀前我國(guó)電位計(jì)常用生產(chǎn)方式有兩種,印刷法和噴涂法。印刷法是在酚醛紙板上,然后膠粘壓制在基體上,最后經(jīng)過(guò)燒結(jié)固化成形


圖1-4PC滾涂原理圖

圖1-4PC滾涂原理圖

圖1-4PC滾涂原理圖從事合成碳膜電位器設(shè)計(jì)、制造、試驗(yàn)類(lèi)型電位器的失效模式作了較詳細(xì)的理進(jìn)行了分析[14]。孫文通以銅代替部



本文編號(hào):4022403

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