發(fā)布時(shí)間：2024-10-04 22:00

　　 采用磁控濺射技術(shù)在Zr70Fe5.4V24.6(質(zhì)量分?jǐn)?shù),%,下同)合金基體上沉積Pd膜。研究磁控濺射沉積Pd膜的生長(zhǎng)特性和顯微組織及Pd膜對(duì)Zr70Fe5.4V24.6合金吸/放氫性能的影響規(guī)律。結(jié)果發(fā)現(xiàn),在Zr70Fe5.4V24.6合金基體上磁控濺射沉積的Pd膜具有fcc結(jié)構(gòu)并在(111)晶面有明顯的擇優(yōu)取向。對(duì)鍍膜后合金吸/放氫性能的測(cè)試結(jié)果表明,磁控濺射沉積Pd膜對(duì)Zr70Fe5.4V24.6合金的活化性能及吸氫動(dòng)力學(xué)無(wú)顯著影響。沉積Pd膜后Zr70Fe5.4V24.6合金可逆吸氫量H/A由0.63增至1.20,吸氫平臺(tái)增長(zhǎng)量約為90%。氫化物形成焓絕對(duì)值的平均值增大約77%,生成熵的平均值增大約56%,沉積Pd膜后的合金與氫結(jié)合所形成的氫化物更穩(wěn)定。

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【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)
2 結(jié)果與討論
    2.1 沉積Pd膜前后合金的相結(jié)構(gòu)及顯微組織
    2.2 沉積Pd膜后合金吸氫動(dòng)力學(xué)
    2.3 沉積Pd膜后合金的吸氫熱力學(xué)
3 結(jié)論



本文編號(hào)：4007192