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EDXRF分析中光源與元素定量分析精度關系研究

發(fā)布時間:2018-04-13 05:48

  本文選題:EDXRF + 輻射截面; 參考:《長春理工大學》2017年碩士論文


【摘要】:EDXRF(Energy Dispersive X-Ray Fluorescence,能量色散X射線熒光光譜)分析技術作為一種化學分析方法被廣泛的應用于地質(zhì)勘測,重金屬元素分析和工業(yè)無損組分分析等行業(yè)中。近年來,隨著計算機、光電子檢測和信息處理等技術等飛速發(fā)展,EDXRF分析手段也逐漸朝著痕量分析的方向不斷發(fā)展,應用范圍不斷擴大。為了提高EDXRF檢測系統(tǒng)的檢出精度,高效的檢測目標元素,必須盡量降低系統(tǒng)中X射線光源及其熒光射線的影響因素,從而提高系統(tǒng)信噪比,增加熒光射線的被探測幾率,實現(xiàn)對系統(tǒng)的性能優(yōu)化。(文中的EDXRF系統(tǒng)為本實驗室設計實現(xiàn)的CUST-1型EDXRF光譜分析儀)本文主要分析研究EDXRF光源(非特指X射線管,而是泛指系統(tǒng)中與X射線及其熒光相關的系統(tǒng)光源結構總和,如X射線的電學參數(shù)、X射線管靶材元素、原級X射線準直器結構、光源的結構位置等。)與系統(tǒng)定量分析精度之間的關系,利用仿真分析的方法,優(yōu)化光源結構參數(shù),提高現(xiàn)有系統(tǒng)的檢測精度。仿真結果表明:EDXRF光譜分析系統(tǒng)中,X射線源靶材材料能夠影響目標元素的特征X射線產(chǎn)出效率;源級X射線準直器能夠校正X射線與物質(zhì)作用的截面形貌,但同時因準直器對X射線的限制吸收,使得目標元素特征射線的強度降低,準直器結構參數(shù)與目標元素熒光強度間存在最優(yōu)值;目標元素的特征射線出射截面能夠影響熒光光子被探測器接收的幾率。利用仿真分析結果,對EDXRF系統(tǒng)結構進行優(yōu)化,根據(jù)定量分析算法設計分析軟件,重新標定后對樣品進行測試對比,優(yōu)化后系統(tǒng)檢測穩(wěn)定性和重復性較原系統(tǒng)較為準確,譜線背景噪聲降低,雖然因準直器對源級X射線的吸收使得總計數(shù)率降低,但優(yōu)化后系統(tǒng)綜合性能得到提升。
[Abstract]:EDXRF ( EDXRF system is CUST - 1 type EDXRF spectrum analyzer designed and implemented in this lab ) . The simulation results show that the X - ray source target material can influence the X - ray output efficiency of the target element . The simulation results show that the X - ray source target material can influence the X - ray output efficiency of the target element .

【學位授予單位】:長春理工大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2017
【分類號】:O657.34

【參考文獻】

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本文編號:1743192

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