中国韩国日本在线观看免费,A级尤物一区,日韩精品一二三区无码,欧美日韩少妇色

當前位置:主頁 > 科技論文 > 電子信息論文 >

基于再生長歐姆接觸工藝的220 GHz InAlN/GaN場效應(yīng)晶體管(英文)

發(fā)布時間:2024-05-21 20:58
  在藍寶石襯底上研制了具有高電流增益截止頻率(fT)的InAlN/GaN異質(zhì)結(jié)場效應(yīng)晶體管(HFETs).基于MOCVD外延n+-GaN歐姆接觸工藝實現(xiàn)了器件尺寸的縮小,有效源漏間距(Lsd)縮小至600 nm.此外,采用自對準工藝制備了50 nm直柵.由于器件尺寸的縮小,Vgs=1 V下器件最大飽和電流(Ids)達到2.11 A/mm,峰值跨導達到609 mS/mm.根據(jù)小信號測試結(jié)果,外推得到器件的fT和最大振蕩頻率(fmax)分別為220 GHz和48 GHz.據(jù)我們所知,該fT值是目前國內(nèi)InAlN/GaN HFETs器件報道的最高結(jié)果.

【文章頁數(shù)】:5 頁

【部分圖文】:

圖1InAlN/GaNHFETs器件截面示意圖(a)和掃描電鏡平面圖(b)

圖1InAlN/GaNHFETs器件截面示意圖(a)和掃描電鏡平面圖(b)

紅外與毫米波學報36卷Fig.1(a)Schematiccrosssectionand(b)theSEMplanformofthefabricatedInAlN/GaNHFETs圖1InAlN/GaNHFETs器件截面示意圖(a)和掃描電鏡平面圖(b)sidewallobliqu....


圖2再生長歐姆接觸TLM結(jié)果

圖2再生長歐姆接觸TLM結(jié)果

紅外與毫米波學報36卷Fig.1(a)Schematiccrosssectionand(b)theSEMplanformofthefabricatedInAlN/GaNHFETs圖1InAlN/GaNHFETs器件截面示意圖(a)和掃描電鏡平面圖(b)sidewallobliqu....


圖3InAlN/GaNHFETs器件直流輸出曲線(a)和轉(zhuǎn)移特性曲線(b)

圖3InAlN/GaNHFETs器件直流輸出曲線(a)和轉(zhuǎn)移特性曲線(b)

1期YINJia-Yunetal:fT=220GHzInAlN/GaNHFETswithregrownohmiccontactsFig.3DCoutput(a)andtransfer(b)characteristicsofthefab-ricatedInAlN/GaNHFETs圖....


圖4小信號射頻性能(a)和模型參數(shù)(b)

圖4小信號射頻性能(a)和模型參數(shù)(b)

νsatvalueismuchlowerthanthetheoreticalone3×107cm/s,[18]thisismainlybecausethatthecalculat-edνsatvalueisextrinsic,whichdoesnotconsiderthein-f....



本文編號:3979914

資料下載
論文發(fā)表

本文鏈接:http://www.lk138.cn/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/3979914.html


Copyright(c)文論論文網(wǎng)All Rights Reserved | 網(wǎng)站地圖 |

版權(quán)申明:資料由用戶19590***提供,本站僅收錄摘要或目錄,作者需要刪除請E-mail郵箱bigeng88@qq.com