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基于紫外固化膠/PMMA雙層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)的微納結(jié)構(gòu)制作

發(fā)布時間:2024-07-01 21:43
  本文基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)微結(jié)構(gòu)圖章的轉(zhuǎn)印技術(shù)將紫外固化膠圖形轉(zhuǎn)移到PMMA基底上,形成紫外固化膠/PMMA雙層膠結(jié)構(gòu),用等離子刻蝕(RIE)后,得到具有內(nèi)切結(jié)構(gòu)的光刻膠掩膜,鍍金屬膜并去膠獲得周期性微納結(jié)構(gòu)。由于界面間粘附能的差異,紫外固化膠圖形可以在無粘附劑輔助下成功轉(zhuǎn)移到PMMA基底上。比較PMMA和這種紫外固化膠在氧氣等離子中的刻蝕速率,表明紫外固化膠在氧氣等離子體中具有高抗刻蝕性,有利于底層的PMMA形成去膠所需的內(nèi)切結(jié)構(gòu)。

【文章頁數(shù)】:4 頁

【部分圖文】:

圖3.10微納米線陣結(jié)構(gòu)的SEM圖??

圖3.10微納米線陣結(jié)構(gòu)的SEM圖??

3.2.9?基于紫外固化膠/PMMA雙層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)的微納結(jié)構(gòu)制作的結(jié)果??根據(jù)前文所介紹的實驗過程,并且迪過對在實驗中所出現(xiàn)的問題進(jìn)行改進(jìn),??最終得到較為理想的實驗結(jié)果。如下圖3.9,是通過基于紫外固化膠/PMMA雙??層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)得到的微結(jié)構(gòu)的SEM圖。從圖中我們可W看出PM....


圖3.11微納米娃點陣SEM圓??

圖3.11微納米娃點陣SEM圓??

3.2.9?基于紫外固化膠/PMMA雙層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)的微納結(jié)構(gòu)制作的結(jié)果??根據(jù)前文所介紹的實驗過程,并且迪過對在實驗中所出現(xiàn)的問題進(jìn)行改進(jìn),??最終得到較為理想的實驗結(jié)果。如下圖3.9,是通過基于紫外固化膠/PMMA雙??層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)得到的微結(jié)構(gòu)的SEM圖。從圖中我們可W看出PM....



本文編號:3999225

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