拓?fù)浣^緣體Bi 2 Se 3 與TiO 2 復(fù)合薄膜材料異質(zhì)結(jié)構(gòu)光電探測(cè)器理論與實(shí)驗(yàn)研究
發(fā)布時(shí)間:2025-07-03 02:23
拓?fù)浣^緣體近些年才被人們所熟知,作為凝聚態(tài)物理領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)半導(dǎo)體材料,其與一般半導(dǎo)體不同之處體現(xiàn)在其具有表面導(dǎo)電而體態(tài)絕緣的特性,導(dǎo)電的邊緣態(tài)穿過(guò)費(fèi)米面,連接導(dǎo)帶底和價(jià)帶頂,這主要是由于拓?fù)浣^緣體材料體能帶受時(shí)間反演對(duì)稱性保護(hù)的作用。以拓?fù)浣^緣體Bi2Se3為例,其擁有0.3e V左右的禁帶寬度,并具有獨(dú)特的能帶結(jié)構(gòu)以及奇特的光學(xué)和電學(xué)性質(zhì),而且對(duì)太陽(yáng)光有很強(qiáng)的光吸收。而Ti O2材料作為光催化劑的典型代表,具有良好的光穩(wěn)定性和光敏性,被廣泛用于太陽(yáng)能電池、污染物降解和光電傳感器等領(lǐng)域。Bi2Se3與Ti O2復(fù)合材料作用到太陽(yáng)能電池中有望提高太陽(yáng)能電池對(duì)太陽(yáng)光的利用率,在本文中將拓?fù)浣^緣體Bi2Se3與Ti O2利用分子束外延法形成復(fù)合材料,成功將拓?fù)浣^緣體應(yīng)用延伸到光電探測(cè)領(lǐng)域。這將大大推進(jìn)拓?fù)浣^緣體應(yīng)用到實(shí)際生活的進(jìn)程。本文先介紹了拓?fù)浣^緣體及其復(fù)合材料的研究現(xiàn)狀。實(shí)驗(yàn)利用分子束外延法...
【文章頁(yè)數(shù)】:57 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
致謝
摘要
abstract
第一章 緒論
1.0 引言
1.1 拓?fù)浣^緣體簡(jiǎn)介
1.2 霍爾效應(yīng)與自旋霍爾效應(yīng)
1.2.1 霍爾效應(yīng)
1.2.2 自旋霍爾效應(yīng)
1.3 三維拓?fù)浣^緣體的發(fā)展
1.3.1 Bi2Se3族材料
1.3.2 Bi2Se3族材料的晶格結(jié)構(gòu)
1.3.3 Bi2Se3族材料的電子結(jié)構(gòu)性質(zhì)
1.4 TiO2及拓?fù)浣^緣體在光電領(lǐng)域的研究
1.5 本文主要內(nèi)容
第二章 分子束外延法制備原理和系統(tǒng)組成
2.1 拓?fù)浣^緣體的制備方法
2.1.1 脈沖激光沉積法(PLD)
2.1.2 化學(xué)氣相沉積法(CVD)
2.1.3 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相法(MOCVD)
2.1.4 分子束外延法(MBE)
2.2 分子束外延的實(shí)驗(yàn)原理及系統(tǒng)組成
2.2.1 真空泵串并聯(lián)系統(tǒng)
2.2.2 冷卻控溫系統(tǒng)
2.2.3 不間斷電源系統(tǒng)
2.2.4 真空傳樣系統(tǒng)
2.2.5 外延生長(zhǎng)系統(tǒng)
2.2.6 原位表征監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
2.3 本章小結(jié)
第三章 高質(zhì)量Bi2Se3薄膜制備流程及性能研究
3.1 TiO2襯底上制備高質(zhì)量Bi2Se3 薄膜流程
3.1.1 實(shí)驗(yàn)設(shè)備和原材料準(zhǔn)備
3.1.2 真空樣品傳輸室(Load-Lock)破真空
3.1.3 襯底準(zhǔn)備
3.1.4 傳入襯底
3.1.5 襯底除氣
3.1.6 外延生長(zhǎng)Bi2Se3薄膜
3.1.7 傳出生長(zhǎng)樣品
3.2 Bi2Se3外延層質(zhì)量影響因素
3.2.1 溫度條件對(duì)Bi2Se3薄膜質(zhì)量的影響
3.2.2 Bi/Se流量比對(duì)Bi2Se3 薄膜質(zhì)量的影響
3.2.3 襯底因素對(duì)Bi2Se3薄膜質(zhì)量的影響
3.4 本章小節(jié)
第四章 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料光電性能研究
4.1 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料的制備及性能研究
4.1.1 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料的制備
4.1.2 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料XRD表征
4.1.3 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料SEM表征
4.2 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料的光吸收性能
4.2.1 200nm800nm波段的光吸收性能研究
4.2.2 800nm1500nm波段的光吸收性能研究
4.3 Bi2Se3/TiO2光電探測(cè)研究
4.3.1 拓?fù)浣^緣體特性優(yōu)勢(shì)
4.3.2 Bi2Se3/TiO2光電探測(cè)器制作
4.4 Bi2Se3/TiO2探測(cè)器的光響應(yīng)
4.4.1 波長(zhǎng)對(duì)光電探測(cè)器的影響
4.4.2 Bi2Se3/TiO2探測(cè)器的響應(yīng)度
4.4.3 Bi2Se3/TiO2探測(cè)器的高頻響應(yīng)特性
4.5 本章小結(jié)
第五章 總結(jié)與展望
5.1 總結(jié)
5.2 展望
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士學(xué)位期間的學(xué)術(shù)活動(dòng)及成果情況
1 )參加的科研項(xiàng)目
2 )發(fā)表的學(xué)術(shù)論文
本文編號(hào):4055618
【文章頁(yè)數(shù)】:57 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
致謝
摘要
abstract
第一章 緒論
1.0 引言
1.1 拓?fù)浣^緣體簡(jiǎn)介
1.2 霍爾效應(yīng)與自旋霍爾效應(yīng)
1.2.1 霍爾效應(yīng)
1.2.2 自旋霍爾效應(yīng)
1.3 三維拓?fù)浣^緣體的發(fā)展
1.3.1 Bi2Se3族材料
1.3.2 Bi2Se3族材料的晶格結(jié)構(gòu)
1.3.3 Bi2Se3族材料的電子結(jié)構(gòu)性質(zhì)
1.4 TiO2及拓?fù)浣^緣體在光電領(lǐng)域的研究
1.5 本文主要內(nèi)容
第二章 分子束外延法制備原理和系統(tǒng)組成
2.1 拓?fù)浣^緣體的制備方法
2.1.1 脈沖激光沉積法(PLD)
2.1.2 化學(xué)氣相沉積法(CVD)
2.1.3 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相法(MOCVD)
2.1.4 分子束外延法(MBE)
2.2 分子束外延的實(shí)驗(yàn)原理及系統(tǒng)組成
2.2.1 真空泵串并聯(lián)系統(tǒng)
2.2.2 冷卻控溫系統(tǒng)
2.2.3 不間斷電源系統(tǒng)
2.2.4 真空傳樣系統(tǒng)
2.2.5 外延生長(zhǎng)系統(tǒng)
2.2.6 原位表征監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
2.3 本章小結(jié)
第三章 高質(zhì)量Bi2Se3薄膜制備流程及性能研究
3.1 TiO2襯底上制備高質(zhì)量Bi2Se3 薄膜流程
3.1.1 實(shí)驗(yàn)設(shè)備和原材料準(zhǔn)備
3.1.2 真空樣品傳輸室(Load-Lock)破真空
3.1.3 襯底準(zhǔn)備
3.1.4 傳入襯底
3.1.5 襯底除氣
3.1.6 外延生長(zhǎng)Bi2Se3薄膜
3.1.7 傳出生長(zhǎng)樣品
3.2 Bi2Se3外延層質(zhì)量影響因素
3.2.1 溫度條件對(duì)Bi2Se3薄膜質(zhì)量的影響
3.2.2 Bi/Se流量比對(duì)Bi2Se3 薄膜質(zhì)量的影響
3.2.3 襯底因素對(duì)Bi2Se3薄膜質(zhì)量的影響
3.4 本章小節(jié)
第四章 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料光電性能研究
4.1 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料的制備及性能研究
4.1.1 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料的制備
4.1.2 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料XRD表征
4.1.3 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料SEM表征
4.2 Bi2Se3/TiO2復(fù)合材料的光吸收性能
4.2.1 200nm800nm波段的光吸收性能研究
4.2.2 800nm1500nm波段的光吸收性能研究
4.3 Bi2Se3/TiO2光電探測(cè)研究
4.3.1 拓?fù)浣^緣體特性優(yōu)勢(shì)
4.3.2 Bi2Se3/TiO2光電探測(cè)器制作
4.4 Bi2Se3/TiO2探測(cè)器的光響應(yīng)
4.4.1 波長(zhǎng)對(duì)光電探測(cè)器的影響
4.4.2 Bi2Se3/TiO2探測(cè)器的響應(yīng)度
4.4.3 Bi2Se3/TiO2探測(cè)器的高頻響應(yīng)特性
4.5 本章小結(jié)
第五章 總結(jié)與展望
5.1 總結(jié)
5.2 展望
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士學(xué)位期間的學(xué)術(shù)活動(dòng)及成果情況
1 )參加的科研項(xiàng)目
2 )發(fā)表的學(xué)術(shù)論文
本文編號(hào):4055618
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