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基于干共混法控制柔性模板上金屬薄膜微裂紋形貌

發(fā)布時間:2024-06-03 00:59
  以500 nm的SiO2納米粒子為填料,聚二甲基硅氧烷(PDMS)為包覆納米粒子的聚合物,通過一種新穎的干共混法制備了SiO2納米粒子含量高達83.8wt%的SiO2/PDMS柔性模板。所制備柔性模板的彈性模量為16.58 MPa,熱膨脹系數(shù)為96×10-6/℃,較SiO2直接摻入PDMS中濕共混制備的純PDMS柔性模板,彈性模量提高了91.56%,熱膨脹系數(shù)降低了69.23%,且該柔性模板具有良好的透明度。最后,在柔性模板表面采用磁控濺射法沉積銀薄膜,利用SEM和AFM對銀薄膜表面形貌進行表征。結(jié)果顯示,銀薄膜表面光滑,粗糙度很小,且具有良好穩(wěn)定性。干共混法制備的柔性模板有效抑制了金屬薄膜微裂紋的產(chǎn)生,為制造導(dǎo)電性良好的電極及大面積的金屬薄膜提供了新方案。

【文章頁數(shù)】:8 頁


本文編號:3987933

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