發(fā)布時間：2018-06-15 19:20

  本文選題：三價鉻 + 硫酸鹽　； 參考：《電鍍與涂飾》2010年04期

【摘要】：采用赫爾槽試驗和直流電解方法研究了三價鉻硫酸鹽溶液鍍鉻工藝。研究結(jié)果表明,三價鉻硫酸鹽溶液快速鍍裝飾鉻的最佳鍍液組成和工藝條件為:Cr3+15g/L,主配位劑(甲酸)10mL/L,輔助配位劑15g/L,Na2SO4144g/L,K2SO450g/L,硼酸60g/L,潤濕劑1g/L,鍍液溫度35°C,pH2.5,電流密度12A/dm2。采用這種鍍液組成和工藝條件在光亮鎳鍍層上鍍裝飾鉻,電鍍2min和3min獲得的光亮鉻鍍層厚度分別為0.32μm和0.49μm,平均鍍速可達0.16μm/min。鍍液中的輔助配位劑使鍍液的覆蓋能力增加,但電鍍一定時間后,鍍層厚度和平均鍍速減小。
[Abstract]:The chromium plating process in trivalent chromium sulfate solution was studied by Hull cell test and direct current electrolysis. The results show that the optimum composition and technological conditions of trivalent chromium sulfate solution for rapid decorative chromium plating are: 1: Cr 315 g / L, main coordination agent (formic acid 10 mL / L), auxiliary coordination agent 15 g / L Na 2SO 4 144g / L so 4 50g / L, boric acid 60 g / L, wetting agent 1 g / L, bath temperature 35 擄C pH = 2.5, current density 12 Ar / dm 2. The plating bath composition and process conditions were used to plating decorative chromium on bright nickel coating. The thickness of bright chromium coating obtained by electroplating 2min and 3min was 0.32 渭 m and 0.49 渭 m, respectively, and the average plating speed was 0.16 渭 m / min. The auxiliary coordination agent in the bath increased the coating ability, but the coating thickness and the average plating speed decreased after electroplating for a certain time.
【作者單位】： 華南理工大學化學與化工學院;廣州二輕工業(yè)科學技術研究所;
【基金】：廣州市開發(fā)區(qū)科技創(chuàng)新(引導資金計劃)項目(2OO8Q.P088)
【分類號】：TQ153.11

【參考文獻】

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【共引文獻】

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【二級參考文獻】

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本文編號：2023254