本文選題：三價鉻電鍍 + 六價鉻��； 參考：《材料保護》2008年01期

【摘要】：研究了一種以甲酸、乙酸及第三種配位劑組合的三價鉻電鍍工藝,并對該鍍液和鍍層進行了性能測試。測試結(jié)果顯示,該體系所得鍍層外觀光澤明亮,光亮電流密度范圍寬(可使用的電流密度從2.5～25.0A/dm2);鍍液的pH值容易控制,分散能力和覆蓋能力好,可在室溫下電鍍,鍍液性能比較穩(wěn)定;通過Taf-el測試和CASS試驗證明,三價鉻鍍鉻層的耐蝕性和六價鉻鍍層相當。
[Abstract]:A trivalent chromium plating process with formic acid, acetic acid and third coordination agent was studied, and the properties of the bath and coating were tested. The test results show that the coating has bright appearance, bright current density range (current density can be used from 2.5 to 25.0A / dm2), and the pH value of the bath is easy to control, the dispersibility and covering ability are good, and it can be electroplated at room temperature. The results of Taf-el test and Cass test show that the corrosion resistance of trivalent chromium coating is equal to that of hexavalent chromium coating.
【作者單位】： 哈爾濱工業(yè)大學(威海)應(yīng)用化學系 哈爾濱工業(yè)大學(威海)應(yīng)用化學系 哈爾濱工業(yè)大學(威海)應(yīng)用化學系 哈爾濱工業(yè)大學(威海)應(yīng)用化學系 哈爾濱工業(yè)大學(威海)應(yīng)用化學系
【分類號】：TQ153

【參考文獻】

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【共引文獻】

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【相似文獻】

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本文編號：1964024