單片集成的高速直調(diào)分布反饋激光器陣列
【文章頁(yè)數(shù)】:154 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1-11(a)偏置量子阱,(b)量子阱混雜,(c)對(duì)接再生長(zhǎng),(d)選擇區(qū)域生長(zhǎng),(e)垂直雙波導(dǎo)結(jié)構(gòu)
集成光芯片的實(shí)現(xiàn),通常需要多種外延結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)對(duì)器件性能的最優(yōu)化。激光器有源區(qū)需要對(duì)量子阱的結(jié)構(gòu)和厚度進(jìn)行優(yōu)化,比如高速調(diào)制激光器需要高的增益系數(shù),放大器需要低的光場(chǎng)限制因子,而光合波器件則需要好的光場(chǎng)限制、小的波導(dǎo)損耗。激光器部分采用了有源量子阱的芯層結(jié)構(gòu),由于有源波導(dǎo)會(huì)對(duì)激光器....
圖1-12量子阱混雜技術(shù)的制作示意圖
一種是偏置量子阱結(jié)構(gòu),在激光器有源區(qū)量子阱下面預(yù)先放置無(wú)源芯層,偏置量子阱的結(jié)構(gòu)如圖1-11(a)所示。激光器有源區(qū)與無(wú)源波導(dǎo)之間間隔很小,有源無(wú)源對(duì)接的位置可以實(shí)現(xiàn)光場(chǎng)直接過(guò)渡。該方案只需要去掉無(wú)源部分的量子阱后,整個(gè)外延片上直接生長(zhǎng)InP的上蓋層,不需要再生長(zhǎng)無(wú)源波導(dǎo)層,工藝....
圖1-13對(duì)接再生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的制作工藝步驟
采用對(duì)接再生長(zhǎng)技術(shù)實(shí)現(xiàn)有源無(wú)源的集成,制作步驟如圖1-13所示。完成量子阱生長(zhǎng)后的外延片上,光刻制作掩膜去除無(wú)源部分的量子阱芯層,采用金屬氣相沉積(Metalorganicchemicalvapordeposition,MOCVD)在量子阱芯層的同一高度生長(zhǎng)無(wú)源波導(dǎo)芯層,....
圖1-14(a)減少反射的切角型MMI示意圖,(b)采用MMI實(shí)現(xiàn)合波的激光器陣列[95]
多模干涉耦合器(Multi-modeinterferometer,MMI)是基于自成像原理[92],由于其對(duì)波長(zhǎng)不敏感的特性,適合于激光器陣列的合波輸出,制作工藝比較簡(jiǎn)單,制作時(shí)容差比較大。但是MMI合波激光器陣列會(huì)造成比較大的插入損耗,輸出功率較低,并且MMI的通道數(shù)越高,插....
本文編號(hào):4005952
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