本文選題：微機電系統(tǒng)技術 + 細胞黏附效率��； 參考：《傳感器與微系統(tǒng)》2017年03期

【摘要】：采用微機電系統(tǒng)(MEMS)技術結合金屬輔助化學腐蝕工藝制作出關鍵結構為納米氧化硅的陣列芯片,細胞可以定點黏附在納米氧化硅上。通過實驗計算和分析得知,在0.7~23μm內(nèi),納米線長度約為3μm時深寬比適宜,有利于黏附蛋白充分鋪展,黏附效率達到最高85%。改變培養(yǎng)時間(5~480 min)和細胞濃度(0.5~4.0),發(fā)現(xiàn)培養(yǎng)時間在不低于4 h,細胞濃度在1.5時,由于偽足充分纏繞于納米線上,陣列飽和度達到最高83%。實驗結果表明:制作出的單細胞陣列芯片具有較高的黏附效率和陣列飽和度,達到了高通量的標準。
[Abstract]:Microelectromechanical system ( MEMS ) technology was used to fabricate the array chip of nano - silicon oxide by using the metal - assisted chemical etching process . The cell could be adhered to the nano - silicon oxide at a fixed point . It was found that the length of the nanowires was up to 85 % . The experimental results showed that the cell concentration was up to 85 % . The cell concentration was up to 83 % . The experimental results show that the single cell array chip has high adhesion efficiency and array saturation , and the standard of high flux is achieved .
【作者單位】： 中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術研究所微系統(tǒng)技術重點實驗室;中國科學院大學;
【分類號】：TN492

【參考文獻】

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【共引文獻】

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本文編號：1972837