光學系統(tǒng)畸變精密測量技術研究
發(fā)布時間:2024-10-05 00:43
畸變是表征光學系統(tǒng)成像失真的像差之一,本質是光信息的幾何錯位。大視場光學系統(tǒng)很難控制畸變,可以通過圖像校正的方法降低畸變的影響。在原子分子物理、固體物理、生物醫(yī)學、應用光學等科研領域,激光系統(tǒng)、光譜儀等實驗儀器廣泛應用畸變校正技術?煽啃UY果的獲取依賴于光學系統(tǒng)畸變的精確測量,畸變測量精度直接決定校正精度。目前常規(guī)光學系統(tǒng)的畸變測量精度數量級多數為10-3,無法滿足要求較高的光學實驗儀器的測量需求,因此開展10-4以上高精度的畸變測量研究工作十分必要。本文針對高精度光學系統(tǒng)畸變測量展開研究,具體內容如下。首先,從理論上分析畸變產生的原因,并闡述論證了不同畸變測量方法的測量原理,結合高精度測量要求,最終選擇基于轉角法展開高精度畸變測量的研究。其次,基于轉角法原理開展了測量誤差分析,得出測角誤差、測長誤差兩大類主要誤差源,并基于0.01%的指標要求完成了詳細的誤差分配。依靠算法優(yōu)化保證誤差分配選定的實驗模塊穩(wěn)定精密地獲取實驗數據。再次,基于誤差分配開展了高精度畸變測量儀器的詳細設計,詳細闡述了以誤差優(yōu)化為前提的硬件設計和算法優(yōu)化方案,具體包括基于...
【文章頁數】:73 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
本文編號:4007341
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【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.4畸變測試系統(tǒng)專利申請人排名
第1章緒論1.3國內申請專利統(tǒng)計畸變測量實驗儀器專利數據來源于國家專利局數據庫;儨y量設備專利申請方面,一般分為兩類。一類為采用經典理論直接測量光學系統(tǒng)畸變;另一類為以算法校正為基礎,采集校正所需要的信息,根據算法不同采集信息差異不同。根據統(tǒng)計可以得出,如圖1.4所....
圖1.5畸變測試系統(tǒng)專利申請趨勢
其他高校、科研院所、科技公司也有少量專利;如圖1.5所示,授權專利數量隨著時間整體呈現正相關趨勢,但是近兩年專利有所下降;如圖1.6所示,國內該類型專利以發(fā)明專利為主。圖1.4畸變測試系統(tǒng)專利申請人排名
圖1.6畸變測試系統(tǒng)專利類型
圖1.6畸變測試系統(tǒng)專利類型.4本文研究結構本文第二章以光學理論為基礎,從設計到加工、檢測進行研究分析。對畸量理論進行闡述,分析了幾種畸變測量方法的特點,經過分析選定轉角法為測量方法,明確誤差分配方向。
圖2.1畸變類型對比
限遠物距遠像距系統(tǒng)~tan100%yqy角放大率,無量綱,0=lim限遠物距遠像距系統(tǒng)yyy。為橫向放大率,無量綱。1100%yqy,liyL于光學系統(tǒng)存在畸變,物平面上一個正方....
本文編號:4007341
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