本文選題：多孔陽極氧化鋁模板 + 高純鋁片　； 參考：《熱加工工藝》2016年16期

【摘要】：研究了在高氯酸/乙醇拋光液體系下,不同拋光電壓(5、10、15、20 V)和拋光時(shí)間(2、3、4、5 min)的拋光工藝對(duì)拋光效果的影響。并且對(duì)拋光過程中的電流密度變化及拋光表面的光亮情況進(jìn)行研究。結(jié)果表明,該體系的最佳拋光工藝:拋光電壓15 V、拋光時(shí)間4 min(分兩次拋光,每次時(shí)間為2 min)。
[Abstract]:The effects of different polishing voltages and polishing times on the polishing effect were studied in perchloric acid / ethanol polishing system. The change of current density and the brightness of polishing surface are studied. The results show that the optimum polishing process is as follows: polishing voltage 15 V, polishing time 4 min (2 mins each time).
【作者單位】： 內(nèi)蒙古科技大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51562031);國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(50845065) 內(nèi)蒙古自然科學(xué)基金項(xiàng)目(2014MS0516) 包頭市科技計(jì)劃項(xiàng)目(2013J2001-1)
【分類號(hào)】：TG175

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本文編號(hào)：1915458