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原位光沉積Cu提升UiO-66-NH 2 光催化制氫性能的研究

發(fā)布時間:2024-02-14 18:40
  金屬-有機骨架(MOFs)材料UiO-66-NH2用于光催化分解水制氫需要負載貴金屬助催化劑,如Pt,但考慮貴金屬價格昂貴,筆者以價格低廉的過渡金屬Cu做產(chǎn)氫助催化劑,采用原位光沉積方法制備Cu/UiO-66-NH2復合光催化材料.結果表明,沉積Cu可以促進UiO-66-NH2的可見光光催化制氫性能.在優(yōu)化的Cu擔載量為6.0%(m/m),Cu/UiO-66-NH2最高產(chǎn)氫速率為40μmol·h-1·g-1,與負載1.0%-Pt/UiO-66-NH2(m/m)材料的產(chǎn)氫速率相當.高光催化制氫性能歸因于UiO-66-NH2中光生電子可以向Cu助催化劑傳輸,從而提升電子-空穴對的分離.實驗結果為過渡金屬用作MOFs產(chǎn)氫助催化劑提供了實驗基礎.

【文章頁數(shù)】:8 頁

【文章目錄】:
1 實驗部分
    1.1 實驗試劑
    1.2 主要儀器
    1.3 材料的制備
        (1) UiO-66-NH2 (UN)的制備:
        (2) Cu/UN樣品的制備:
    1.4 光催化制氫實驗
    1.5 電化學測試
2 結果與討論
    2.1 X射線衍射(XRD)與紅外圖譜(FT-IR)分析
    2.2 樣品的形貌分析
    2.3 紫外-可見吸收光譜(UV-Vis)分析
    2.4 X射線光電子能譜(XPS)分析
    2.5 光催化制氫性能的評價
    2.6 光催化制氫機制
3 結束語



本文編號:3898423

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