發(fā)布時(shí)間：2024-07-05 22:58

　　碳/碳(C/C)復(fù)合材料具有優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性以及優(yōu)異的高溫力學(xué)性能,從而被應(yīng)用于空天領(lǐng)域。但是,C/C復(fù)合材料在超過450°C的有氧環(huán)境下就會(huì)被氧化,限制了其在氧化氣氛下的廣泛應(yīng)用。陶瓷涂層被證明是解決碳/碳復(fù)合材料氧化問題的可靠方法。但是,陶瓷涂層由于其固有的脆性,在從高溫到室溫的熱循環(huán)過程中容易產(chǎn)生裂紋,限制了其進(jìn)一步的應(yīng)用。本論文以C/C復(fù)合材料高溫抗氧化涂層的關(guān)鍵基礎(chǔ)科學(xué)問題為核心。為改善陶瓷涂層的脆性,采用不同的方法制備出各種一維材料增韌硅酸鹽復(fù)合抗氧化涂層。研究了不同涂層的晶相組成,顯微結(jié)構(gòu),結(jié)合強(qiáng)度,增韌機(jī)理以及抗熱震和抗氧化性能。結(jié)果如下:(1)采用熔鹽法制備了β-Y₂Si₂O₇晶須,研究了熔鹽溫度對(duì)制備硅酸釔晶須晶相、顯微結(jié)構(gòu)的影響以及β-Y₂Si₂O₇晶須的合成機(jī)理。另外,研究了對(duì)應(yīng)β-Y₂Si₂O₇陶瓷的熱物理性能。所制備β-Y₂Si_2<...

【文章頁數(shù)】：90 頁

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖2-12（a）β-Y2Si2O7晶須增韌Y2SiO5/YAS涂制備示意圖；（b）球形試樣宏觀照；（c）方形試樣宏觀照

碳/碳復(fù)合材料用一維硅基材料增韌硅酸鹽復(fù)合抗氧化涂層的制備與性能研究（2）顯微結(jié)構(gòu)及能譜分析所制備涂層試樣的表面和橫斷面形貌通過日本株式會(huì)社生產(chǎn)的JSM-6390A型SEM進(jìn)行觀察（加速電壓：30kV，工作距離：11mm，最高放大倍數(shù)30000），試樣所含元素及分布利....

圖3-8不同熔鹽時(shí)間制備莫來石晶須面SEM照:（a）未熔鹽處理；（b）熔鹽時(shí)間0.5h；（c）

碳/碳復(fù)合材料用一維硅基材料增韌硅酸鹽復(fù)合抗氧化涂層的制備與性能研究數(shù)的增加，未經(jīng)過熔鹽處理的樣品斷面上可以明顯看到SiC涂層。熔鹽時(shí)品，可以看到表層生長(zhǎng)出了厚度約為10μm的莫來石晶須層，明顯能看；熔鹽時(shí)間為1h的樣品，可以看到一層厚度約為20μm的莫來石....

圖4-1（a）碳化硅納米線SEM照；（b）莫來石粉體SEM照

碳/碳復(fù)合材料用一維硅基材料增韌硅酸鹽復(fù)合抗氧化涂層的制備與性能研究4.2.2SiCNW增韌莫來石涂層的制備（1）實(shí)驗(yàn)用粉體的準(zhǔn)備實(shí)驗(yàn)用碳化硅納米線為市售，圖4-1（a）為碳化硅納米線的SEM照片。從圖中可看出，其長(zhǎng)度大約為10-20μm，大的長(zhǎng)徑比能保證納米線在熱震....

圖4-5（a）固法制備SiC內(nèi)涂表面SEM照[22]

碳/碳復(fù)合材料用一維硅基材料增韌硅酸鹽復(fù)合抗氧化涂層的制備與性能研究電弧放電過程中，形成致密的復(fù)合外涂層。對(duì)納米線做EDS表明，所制備多孔的中的納米線只由Si、C兩種元素組成,這說明所制備的SiCNW層具有較高的純度4-5（c）的SiCNW層的斷面SEM照片可....

本文編號(hào)：4001673